CMA シリーズ 半導体およびエレクトロニクス用途向けの研磨液高汚れ保持フィルター カートリッジ。

CMA シリーズ研磨液高汚れ保持フィルター カートリッジは、酸化物 CMP、タングステン CMP、銅 CMP プロセスにおけるバルク粒子およびコロイドの濾過用に設計されています。

このシリーズは、勾配処理と独自の段階的な細孔サイズ設計を採用しています。細孔サイズは外側から内側に向​​かって徐々に小さくなり、有用な研磨粒子が通過できる一方で、大きな粒子や凝集体を捕捉することができます。この構造により、ろ過効率が向上し、ゴミ保持スペースが増加し、目詰まりが軽減され、フィルターの寿命が長くなります。

全ポリプロピレン構造、低沈殿、幅広い化学的適合性、および 0.1 μm ～ 90 μm のオプションのミクロン評価を備えた CMA シリーズは、さまざまな研磨液濾過要件に適しています。

• グラジエントろ過構造

  濾材の孔径は外側から内側に向​​かって徐々に小さくなります。この構造は、大きな粒子を捕捉し、効果的な研磨粒子を放出するのに役立ち、より大きな有効濾過面積とより高い汚れ保持能力を提供します。

  降水量が少ない

  カートリッジはオール PP 構造で作られており、接着剤や界面活性剤を使用せずに製造されています。これにより、ろ過中の沈殿や浸出のリスクを軽減できます。

  幅広い化学的適合性

  ポリプロピレン構造は化学的適合性に優れており、さまざまな研磨液やプロセス流体の濾過に適しています。

  オプションの複数ミクロン定格とインターフェース

  さまざまな研磨プロセス要件を満たすために、0.1 μm ～ 90 μm のミクロン評価が利用可能です。さまざまなフィルターハウジングで使用するために、さまざまな長さとインターフェイスタイプをカスタマイズすることもできます。

通常のPPフィルターカートリッジと比較して、CMAシリーズは研磨液やCMPスラリーのろ過に特化して設計されています。その勾配ろ過構造により、液体中の効果的な研磨成分を維持しながら、大きな粒子を捕捉するのに役立ちます。

高い汚れ保持能力により、詰まりを軽減し、耐用年数を延ばし、フィルターの交換頻度を下げることができます。全 PP 接着剤不使用の構造は、沈殿を制御し、プロセスの清浄度を向上させるのにも役立ちます。

当社は、フィルター交換のガイダンスやメンテナンスの推奨事項など、設置、操作、メンテナンスに関する包括的な技術サポートを提供します。完全なドキュメントには、ユーザー マニュアル、インストール ガイド、トラブルシューティングのメモが含まれます。

Shanghai Pullner Filtration Technology Co., Ltd.は2011年5月に登録資本金2,600万人民元で設立されました。同社はクラス 100,000 のクリーンルーム ワークショップ (3,000 平方メートル) とオンサイトのクラス 1,000 クリーン ラボラトリーを運営し、微多孔膜濾過装置および濾過システムの研究開発、製造、販売を統合しています。

プルナー製品は、マイクロエレクトロニクス、ファインケミカル、新エネルギー、海水淡水化、バイオテクノロジー、LCDパネル、半導体処理、高純度化学薬品、凝縮水ろ過、再生水再利用などの実験分野に広く応用されています。

同社は ISO9001 / ISO14001 / ISO45001 認証を取得しており、ハイテク企業として認められており、複数の特許を所有しています。 Pullner はサウジアラムコの承認ベンダーでもあります。

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