会社のニュース 半導体フィルターカートリッジ: 主要な濾過媒体、精度要件、および将来のトレンド

半導体フィルター カートリッジは、半導体製造および関連する電子プロセスで使用される高純度の濾過エレメントです。標準的な工業用フィルターとは異なり、半導体フィルターは粒子を除去するだけでなく、抽出物、金属イオン、有機残留物、繊維、材料の脱落による汚染リスクを軽減するように設計されています。

半導体製造では、非常に小さな粒子や微量の汚染物質であっても、ウェーハの歩留まり、表面の清浄度、およびプロセスの安定性に影響を与える可能性があります。したがって、ろ過は、湿式プロセスの化学薬品、超純水、フォトレジスト、CMP スラリー、溶剤、ガス、その他の高純度システムにおける汚染管理の重要な部分です。

Pullner は、高純度アプリケーションおよび半導体関連アプリケーション向けのフィルター カートリッジ ソリューションを提供し、お客様が実際のプロセス条件に応じて適切なフィルター材料、ろ過精度、構造、および接続タイプを選択できるよう支援します。

材料の選択は、半導体濾過において最も重要な要素の 1 つです。化学物質、温度、流量、清浄度の要件が異なると、異なるフィルター媒体が必要になります。

• PTFEフィルターカートリッジ攻撃的な化学薬品、有機溶剤、高純度ガス、強酸または強アルカリ環境で広く使用されています。 PTFE は耐薬品性に​​優れており、要求の厳しい多くの半導体プロセスに適しています。
• PFAフィルターカートリッジ優れた化学的適合性、低い汚染リスク、および強力な材料安定性が必要とされる高純度化学ろ過によく選択されます。 PFA は、腐食性化学薬品の供給やハイエンドの湿式プロセス用途で一般的に使用されます。
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• UPEフィルターカートリッジ抽出物が少なく、清浄度が高く、粒子除去性能が安定しているため、電子化学ろ過に広く使用されています。 UPE フィルターは、高純度の化学薬品、溶剤、一部の高度なプロセス液体によく使用されます。
• PESフィルターカートリッジ超純水、脱イオン水、および一部の水性濾過プロセスで一般的に使用されます。 PES 膜は、水ベースのシステムにおいて優れた流動性能と安定した濾過効率を提供します。
• PPフィルターカートリッジプレろ過、一般的な化学ろ過、および一部の攻撃性の低いプロセス流体に適しています。 PP フィルターはコスト効率が高く、下流の高精度フィルターの保護に使用できます。

多くの半導体システムでは、フィルターは単独で使用されません。合理的な濾過設計では、プレフィルター、中間フィルター、最終フィルターを組み合わせて、粒子負荷を軽減し、高価な最終フィルターを保護し、安定したプロセスパフォーマンスを維持します。

半導体フィルターカートリッジの濾過精度は、一般の工業用濾過に比べて非常に厳しいものが一般的です。プロセスに応じて、フィルタの定格はミクロン レベルからサブミクロン レベル（0.45 μm、0.2 μm、0.1 μm、0.05 μm、またはそれ以上など）の範囲になる場合があります。

ただし、半導体フィルタの選択は、より小さいミクロン定格を選択することだけを意味するわけではありません。フィルターが細かすぎると圧力損失が大きくなったり、流量不足になったり、寿命が短くなる場合があります。フィルターが粗すぎると、粒子を十分に制御できない可能性があります。

重要なパフォーマンス指標には次のものがあります。

• 粒子除去効率。
• 圧力損失と流量の安定性。
• 汚れを保持する能力。
• 化学的適合性。
• 抽出物が少なく、金属イオンの放出も少ない。
• 粒子の脱落が少ない。
• バッチの一貫性。
• クリーンな製造と梱包品質。

高純度の用途では、より信頼性の高い粒子保持性能を提供する絶対定格フィルターが好まれることがよくあります。さらに、半導体顧客は、テストデータ、トレーサビリティ、リンス性能、および特定の化学物質との適合性にも注意を払う可能性があります。

半導体の顧客にとって、最適なフィルターは必ずしも最も高価なものや最高級のものであるとは限りません。正しい選択は、実際のプロセス要件に基づいて行う必要があります。

• 最初の懸念は化学的適合性です。フィルター材料は、膨張、変形、劣化、または汚染物質の放出がなく、プロセス液体またはガスに耐える必要があります。
• 2番目の懸念は清潔さです。半導体フィルターには、抽出物が少なく、粒子の脱落が少なく、安定したすすぎ性能が必要です。
• 3 番目の懸念は濾過効率です。フィルターは、適切な流れを維持しながら、ターゲット粒子を効果的に除去する必要があります。
• 4番目の懸念は圧力損失です。圧力降下が高すぎると、化学物質の供給の安定性に影響を及ぼし、システム負荷が増加する可能性があります。
• 5番目の懸念は耐用年数です。適切に設計された濾過システムでは、濾過性能と交換頻度のバランスが取れている必要があります。
• 6つ目は、シールと接続の種類です。一般的なエンド接続には、DOE、SOE、222、226、フィン エンド、フラット エンド、およびカスタマイズされたインターフェイスが含まれます。シールが不十分だとバイパス漏れが発生する可能性があり、これは高純度濾過では許容できません。
• 7 番目の懸念事項は、バッチの安定性です。半導体製造では、バッチ間で一貫したフィルター性能が必要です。

半導体製造が微細化と高集積化に向かう​​につれ、汚染管理の要件はさらに厳しくなるでしょう。これにより、半導体フィルターカートリッジに対するより高い技術要件が生じます。

将来的には、半導体濾過はさまざまな方向に発展するでしょう。

• まず、フィルターには、より細かい粒子サイズでのより高い粒子除去効率が必要になります。高度な製造プロセスでは、サブミクロンおよびナノスケールの汚染をより強力に制御する必要があります。
• 第二に、低抽出物と低金属イオン放出がますます重要になります。フィルターの材質と製造プロセスは、よりクリーンでより安定していなければなりません。
• 第三に、化学的適合性が今後も重要な焦点となるでしょう。湿式プロセスの化学薬品がより複雑になるにつれて、PTFE、PFA、UPE などのフィルター材料が引き続き重要な役割を果たします。
• 第 4 に、カスタマイズされた濾過ソリューションがより一般的になるでしょう。顧客が異なれば、化学システム、流量、ハウジング設計、プロセス目標も異なる場合があります。標準フィルタは必ずしもすべての要件を満たしているとは限りません。
• 5 番目に、現地での交換とコストの最適化が多くの顧客にとって重要になります。高純度ろ過には国際ブランドが広く使用されていますが、長期的な運用コストを削減しながら技術要件を満たせる信頼性の高い代替品を求める顧客が増えています。
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Pullner は、高純度化学薬品、超純水、溶剤、ガス、CMP スラリー前ろ過、電子プロセス液体などの半導体関連アプリケーション向けのフィルター カートリッジ ソリューションを提供しています。

利用可能な材料には、用途要件に応じて PTFE、PFA、UPE、PES、PP、ナイロン、PVDF、およびその他のフィルター媒体が含まれます。 Pullner は、プロセス液体、ろ過精度、流量、動作圧力、温度、既存のフィルターモデル、図面、またはサンプルに基づいてフィルターの選択をサポートできます。

粒子汚染、短いフィルター寿命、高額な交換コスト、輸入フィルターの交換、または不安定な濾過性能に直面しているお客様に対して、プルナーはプロセスの分析を支援し、適切な濾過ソリューションを推奨します。

半導体フィルター カートリッジは、高純度製造システムの重要なコンポーネントです。それらの価値は粒子の除去に限定されません。また、汚染の制御、プロセスツールの保護、生産の安定性の向上、製品収率のサポートにも役立ちます。

半導体フィルターを選択する場合、お客様は濾過媒体、ミクロン定格、化学的適合性、清浄度、圧力降下、耐用年数、およびシステム設計を併せて考慮する必要があります。

Pullner は、信頼性が高くコスト効率が高く、カスタマイズされた半導体フィルター カートリッジ ソリューションを世界中の顧客に提供することに取り組んでいます。

Pullner 半導体フィルター カートリッジと高純度濾過ソリューションの詳細については、次のサイトをご覧ください。www.pullnerfilter.com。