会社のニュース プルナー半導体フィルターカートリッジ：安定した半導体製造のための高純度ろ過

半導体製造では、非常に小さな粒子、ゲル、金属イオン、有機汚染物質であっても、ウェーハの歩留まりやプロセスの安定性に影響を与える可能性があります。したがって、濾過は単純な分離プロセスであるだけでなく、高純度の生産環境における汚染管理の重要な部分でもあります。

Pullner は、ウェットプロセス化学薬品、フォトレジスト、現像液、溶剤、CMP スラリー、超純水、高純度ガスろ過などの要求の厳しい用途向けに設計された半導体フィルター カートリッジを提供しています。これらのフィルターは、お客様がプロセスの清浄度を向上させ、下流の機器を保護し、安定した生産パフォーマンスを維持するのに役立ちます。

一般的な半導体フィルター カートリッジは、次のようないくつかの重要な部品で構成されています。

• フィルター膜
• サポート層
• 排水層
• 内核
• アウターケージ
• エンドキャップ
• シール界面

膜は最も重要な濾過層であり、液体または気体から粒子や汚染物質を除去する役割を果たします。一般的な膜材料には次のものがあります。

• PTFE
• PFA
• UPE
• PES
• PP

それぞれが異なる化学条件に適しています。たとえば、PTFE や PFA は攻撃的な化学薬品や溶剤によく使用されますが、UPE は抽出物が少なく、優れた清浄度を備えているため、高純度の化学ろ過に広く使用されています。

サポート層と排水層は、安定した流れを維持し、動作中の圧力降下を軽減します。内側コアと外側ケージは機械的強度を提供し、フィルター カートリッジが特定の圧力と流量条件下で確実に動作することを可能にします。エンド キャップとシーリング設計により、適切な取り付けが保証され、高純度の半導体プロセスで特に重要なバイパス リークの防止に役立ちます。

半導体フィルター カートリッジの主な濾過目的は次のとおりです。

• パーティクル除去
• ゲルコントロール
• 細菌の制御
• 金属イオンの低減
• 低抽出物
• 安定した流量性能

湿式プロセスおよび電子化学ろ過では、ウェーハ表面の欠陥の原因となる微粒子を除去するためにフィルターが使用されます。超純水システムでは、フィルターは水の清浄度を維持し、繊細なプロセス機器を保護するのに役立ちます。ガス濾過では、高効率フィルターを使用して浮遊粒子を制御し、クリーンなガスを確実に供給します。

通常の工業用フィルターと比較して、半導体グレードのフィルターは、より高い清浄度、より優れた化学的適合性、より低い汚染リスク、より安定したバッチの一貫性を必要とします。 Pullner は、材料の選択、構造設計、クリーンな生産、品質管理に重点を置き、高純度用途向けの信頼性の高い濾過ソリューションを提供します。

国際的なフィルター ブランドの代替品をお探しのお客様のために、Pullner は部品番号、技術図面、サンプル、または実際の作業条件に基づいた選択をサポートします。寸法確認、材質マッチング、サンプル試験、認定後のバルク供給まで対応いたします。

お客様の用途が高純度化学ろ過、超純水処理、CMP スラリーろ過、またはガスろ過のいずれであっても、プルナーはプロフェッショナルでコスト効率の高い、カスタマイズされた半導体ろ過ソリューションを提供する準備ができています。

Pullner 半導体フィルター カートリッジの詳細については、次のサイトをご覧ください。www.pullnerfilter.comまたは、技術サポートと製品の選択についてはお問い合わせください。